PAMS (Plasma Arc Monitoring System)

運用超高頻率達250KHz的先進光學感應技術,能偵測出電漿製程(CVD, PVD, Etch)時微小電漿弧(Micro Arc),以避免微塵或晶圓線路的破壞提升製程品質與良率。

※ 本系統硬體特性:

■ 高頻率光學感應器(OPM/OES/SPOES)
■ RF感應器(VI Probe/RF Sensors)

 

※ 軟體特性:

■ 實時監控
■ 先進的演算法
■ 多種參數設定與FDC/生產工具方便分析

 

 

 

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